冷光源“uv激光器”的原理

 產(chan) 生激光的必不可少的條件就是離子數反轉或者增益大於(yu) 損耗，所以裝置中必不可少的組成部分有激勵(或抽運)源、具有亞(ya) 穩態能級的工作介質兩(liang) 個(ge) 部分。激勵是工作介質吸收外來能量後激發到激發態,為(wei) 實現並維持粒子數反轉創造條件。激勵方式有光學激勵、電激勵、化學激勵和核能激勵等。按運轉方式分類激光器類型
激光工作物質是指用來實現粒子數反轉並產(chan) 生光的受激輻射放大作用的物質體(ti) 係，有時也稱為(wei) 激光增益媒質，它們(men) 可以是固體(ti) (晶體(ti) 、玻璃)、氣體(ti) (原子氣體(ti) 、離子氣體(ti) 、分子氣體(ti) )、半導體(ti) 和液體(ti) 等媒質。對激光工作物質的主要要求,是盡可能在其工作粒子的特定能級間實現較大程度的粒子數反轉，並使這種反轉在整個(ge) 激光發射作用過程中盡可能有效地保持下去;為(wei) 此，要求工作物質具有合適的能級結構和躍遷特性。
而我們(men) 所說的紫外激光器是按照輸出波段的範圍分類的，主要與(yu) 紅外激光和可見激光做比較,紅外激光和可見光通常靠局部的加熱使物質熔化或者氣化的方式來加工，但是這種加熱會(hui) 使物質周圍遭到破壞因而限製了邊緣強度和產(chan) 生小精細特征的能力。紫外激光直接破壞連接物質原子組分的化學鍵，這種被稱為(wei) “冷”過程的方式不產(chan) 生對外圍的加熱而是直接將物質分離成原子 

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