國產光刻機現在是什麽水平？

中國的芯片製造是中國科技界心中永遠的傷痛。

雖然現在我們(men) 可以獨立製造出中低端的芯片，但對於(yu) 高端芯片仍然無能為(wei) 力，就因為(wei) 我們(men) 沒有製造高端芯片的光刻機！
有人斷言，EUV光刻機太先進了，如果我國未來5年可以買(mai) 到，就能夠保證至少10年的半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 發展，那中國將會(hui) 成為(wei) 難以壓製的對手。然而，無奈的是，中芯國際多次向ASML提出購買(mai) 光刻機設備，卻因為(wei) 美國的阻撓等種種原因，ASML久久未能交貨。
按照用途，光刻機可分為(wei) 生產(chan) 芯片的光刻機、用於(yu) 封裝的光刻機、用於(yu) LED製造領域的投影光刻機這三種。其中用於(yu) 生產(chan) 芯片的光刻機是中國在半導體(ti) 設備製造上最大的短板，國內(nei) 晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。國內(nei) 在這一領域差距太大，要想在短期內(nei) 實現國產(chan) 替代並不現實。
那國產(chan) 的光刻機目前達到什麽(me) 水平了？
目前，中國最牛的光刻機生產(chan) 商是上海微電子裝備公司（SMEE），它可以做到的最精密的加工製程是90nm，這就好比2020年的電腦還在使用2004年最新款的intel奔騰四處理器，也即是說，中國光刻機與(yu) 荷蘭(lan) 光刻機之間有著至少15年的差距……
據媒體(ti) 報道，上海微電子裝備公司新一代的28nm浸沒式光刻機預計今年可以完成，但即使順利也得明年才能導入產(chan) 線試產(chan) 。

國產(chan) 光刻機現在是什麽(me) 水平？

此前，我國在重大專(zhuan) 項計劃中提出，2020年要實現22nm製程光刻機的突破，但目前還沒有成功的消息。即便實現這一突破，距離最先進的7nm以下的EUV光刻機仍然遙遠。
但好消息是，由於(yu) 該技術進步空間非常有限，隨著製程的不斷縮小，繼續壓縮製程的難度越來越大，留給我們(men) 還有相對充足的追趕時間。
隻是我國在自主研發製造光刻機這件事上，因為(wei) 美國的技術封鎖，需要拿出單挑全世界的大氣魄，跟整個(ge) 西方科技界死磕到底！


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